众所周知，多探头（MP）技术在近场（NF）测量中的应用能够显著缩短测试时间。这是通过使用阵列中的不同探头对辐射场进行电子采样来实现的，无需机械探头移动。然而，在平面近场（PNF）测量中，精度取决于后处理期间的探头校正（PC）。对平面近场（PNF）MP 系统中每个传感器的模式进行表征是一项额外的挑战，通常不切实际或根本不可能。以前的出版物探讨了各种方法来应对这一挑战，并实现 MP 等效模式的精确表征。在本文中，我们重点介绍平均探测模式 (APP) 技术，该技术涉及 MP 模式的实验测定。为了验证 APP 技术的有效性，我们在配备了 4.65 米探针阵列的大型 PNF MP 系统上进行了实验。我们的测量重点是在 1.8-6.0 GHz 频率范围内工作的直径为 1.5 米的大型电子反射天线（MVG SR150 反射天线，由一个四脊喇叭馈电）。验证过程包括比较使用 APP 技术处理的 MP 测量值和传统的开口波导 (OEW) PNF 测量值。为确保验证的可靠性，我们在相同的频率范围和测试装置内进行了对比测试。这最大限度地减少了测量误差的影响，从而实现了技术之间稳健而准确的比较。通过验证 APP 技术的有效性，我们旨在确定其是否适用于提高 PNF MP 系统测量的准确性。